RU
| EN
Продукция
О компании
Новости
События
Наши публикации
Карьера
Контакты
RU
| EN
Керамические подложки
AI203;
AIN;
ZrO2;
Si3N4;
SiC;
BeO и др.
Подробнее
Металлизированные платы
Тонкопленочная технология;
Толстопленочная технология;
DBC, AMB, DPC.
Подробнее
Объемная керамика
Трубки;
Втулки;
Цилиндры;
Изоляторы;
Тигли.
Подробнее
Типы материалов
Подробнее
Категории материалов
Подробнее
Металлокерамические корпуса
CDIP;
CSOP;
CLCC;
CQFP;
CQFN;
CBGA;
CPGA;
SMD;
MiniPin;
TO и др.
Подробнее
Пьезоэлектрические элементы и кристаллы
PZT;
LiNbO3;
LiTaO3;
SiO2.
Подробнее
Кварцевое стекло (SiO2)
кварцевые реакторы;
окна;
полки;
лодочки;
тигли из кварца;
камеры и др.
Подробнее
Вакуумное оборудование для микроэлектроники
Вакуумное плазменное оборудование для производств микроэлектроники, в т.ч. плазменной обработки поверхности.
Подробнее
Керамические комплектующие для оборудования
Керамические узлы для оборудования и техно- логических процессов травления, осаждения и ионной имплантации
Подробнее
Оксид алюминия (Al2O3)
Нет в наличии
Керамические подложки на основе оксида алюминия (Al2O3)
Нет в наличии
Подложки DPC (Direct Plated Copper)
Нет в наличии
Нитрид алюминия (AlN)
Нет в наличии
Танталат лития (LiTaO3)
Нет в наличии
Керамические подложки на основе нитрида алюминия (AlN)
Нет в наличии
Тонкопленочная технология
Нет в наличии
Нитрид кремния (Si3N4)
Нет в наличии
Ниобат лития (LiNbO3)
Нет в наличии